디스플레이용 TDS는 Glass 재질 상의 유기박막 등의 분석이 가능하며, 형상에 따라 유연하게 샘플홀딩 및 로딩이 가능하도록 설계되었습니다.
· Sample Description : glasses up to 100 mm × 100 mm
· Mass Range : (1 ~ 200) amu
· IR Rod Heating : up to 900 ℃
· Base Pressure : *process chamber, < 5 × 10-7 mbar / *measurement chamber, < 1 × 10-9 mbar
· DAQ System : manual or automated fully, sampleloading to measurement through data analysis
aTDS는 300mm 웨이퍼 분석에 있어 전자동화를 위해 EFEM, Wafer Transfer Robot와 함께 구성되어 있으며, 사용자 요구에 따라 100, 200, 300, 500 amu 등 QMS을 비롯한 다양한 옵션의 핵심 구성품으로 제공될 수 있습니다.
· Sample Size : 300 mm WAFER
· Halogen Lamp Heater
· up to 950℃
· High Vacuum with gold plated chamber
· Fully Automatic (EFEM/Aligner/WTR)
그외 특수목적용도로 제작된 TDS 설비로써 외부 기관에서의 분석의뢰에 따라 정성+정량 분석한 시험 성적서를 제공합니다.
- Complex TDS
- SRM in distance, sample in large chamber TDS
- Varied sample features, user specified TDS in demand
· Sample Description : up to Ø30 mm × 50 mm
· Mass Range : (1 ~ 200) amu
· IR Rod Heating : up to 900 ℃
· Base Pressure : *process chamber, < 2 × 10-9 mbar / *measurement chamber, < 1 × 10-9 mbar
· DAQ System : manual, sample loading to measurement through data analysis
· System Design : user specified requirements
· Sample Description : up to Ø20 mm × 50 mm
· Mass Range : (1 ~ 200) amu
· IR Rod Heating : up to 800 ℃
· Base Pressure : *process chamber, < 5 × 10-8 mbar
· DAQ System : manual, sample loading to measurement through data analysis
KR
