화살표

TDS

Introduction

TDS란 승온탈리분석기로써 시료에 온도를 올리면 시료표면에서 탈리되는 가스를 측정하고 분석하기 위한 장치입니다. 이는 각 분자의 결합에너지에 대한 정확한 정보를 얻을 수 있습니다. 이 기술을 이용하면 초고진공영 역에서 기체양의 변화와 조성을 극미량까지 알 수 있고 온도와 시간에 따른 변화를 정성, 정량적으로 측정가능합니다.
분석기술 중 감도가 가장 좋으며 Chemical free로 안정성까지 우수합니다. 

What is TDS?

TDS는 시료의 온도를 올리면서 시료의 표면에서 탈리되는 가스를 측정하고 분석하기 위한 장치입니다.
공정중 발생하는 방출 가스의 정성적, 정량적 분석을 통해 원인을 미리 분석하고 예방하기 위한 용도로 사용됩니다.


 

Why TDS?

Simple Idea : Adsorbed particles with different binding energies will desorb at different temperature. 


 

Applications

  • - 반도체, 디스플레이 재료 분석
  • - 자동차, 철강 재료 수소 분석
  • - 초순수 재료, 극미량 분석

승온에 따른 불순물(Outgassing rate) 검사 기법은 TDS 방법을 사용하여 일반적으로 수행하고 있으나 국소 지향적이고 방향 지향적인 웨이퍼 실시간 불순물 맵핑 측정진단 기법은 현재까지 정립되고 있지 않은 형편에 있으며, 정성분석 및 정량분석이 동시에 가능한 시스템도 전무합니다.당사에서는 이러한 단점을 극복한 TDS 시스템을 공급합니다.


 

Performance Comparisions

IVT의 TDS는 Calibration, Heating, Pumping Speed 등 타사에 비해 높은 경쟁력을 갖추고 있습니다. 또한, 적용 분야에 따라 사용자 편의적인 DAQ 소프트웨어를 제공합니다. 

fTDS(Fusion)&TVGAIVT sTDS(smal)mTDS(moduated)Company ACompany BtTDS(throughput)
Measurement MethodThroughtput⑴
mapping capability
Throughtput⑴Modulation⑴QMS signal⑵QMS signal⑵Throughtput⑴
CalibrationO: direct KRISS
measurement
traceability
O: direct KRISS
measurement
traceability
O: direct KRISS
measurement
traceability
Δ indirect
traceability,
standard sample
required
Δ indirect
traceability,
standard sample
required
O: direct NMI
measurement
traceability
Sample300mm wafer, Ø60mmØ20mm SampleØ20mm SampleØ10mm SampleØ10mm SampleØ10mm Sample
HeaterBeam heater
Lamp heater
IR rod heaterIR rod heaterIR rod heaterFurnace : PID DifficultIR rod heater
Hydrogen Pumping
Speedr
Method 1 : not enough
calibration only
Method 2 : enough
Method 1 : not enough
calibration only
Method 2 : enough
Variable : dependent on
the Position of the Orifice
Plunger
EnoughNot enough :
buffer zone
(two TMPs Required)
Not enough :
fixed orifice constraint
AnyMolecule, XEasy :
direct measurement
Easy :
direct measurement
DifficultIndefinite Traceability
QMS Dependent Signal
Indefinite Traceability,
QMS Dependent Signal
Modification
required
Atomic Mass200200200200200200
Uncerainty18.0%(BPG 400 IG)4.8% or 18.0%Conductance DependentUnknownUnknown4.8% (370 Stavil IG)
DAQ SoftwareReal TimeReal Time
(user specitied)
Not Real TimeReal TimeReal TimeReal Time
MaintenanceEasyEasyEasyVery DifficultVery DifficultEasy
CompetitivenessMost CompetitiveHighly CompetitiveCompetitiveHighly CompetitiveVery CompetitiveVery Competitive

(1) P.A.Redhead, “Recommended practices for measuring and reporting outgassing data”, J.Vac.Sci. Technol.A 20(5). Sep/Oct 2002
(2) US 5,528,032(June18,1996) - Thermal Desorption Gas Spectrometer, ESCO Ltd.