진공 상태에서 저항 열, 전자 beam, plasma를 이용하여 금속 및 비금속 물질을 기체 상태로 만들어 기판에 증착 시키는 장비이며, 주로 디스플레이, 반도체, 태양광 제조에 많이 쓰이고 있습니다. 진공 챔버 내에 다양한 Heating Element(Sheath, Super Kantal, Halogen, Graphite)의 적용 및 고진공 환경을 제공합니다.
· Single/Multi Pocket E-Beam source with Water Cooled Crucible (4 cc up to 75 cc) with individual shutter
· High Voltage Power Supply (3 kW to 15 kW)
· X-Y Beam Sweep & Controller
· 4" Diameter View Port on Front Door With Manual Shutter
· Available in single & multi sputter sources with water cooling system.
· Available in high voltage power supply (3 kW ~ 10 kW)
· Substrate Rotation & Heating (100 ℃ up to 400 ℃)
· Source size from 3" to 8", User defined source size available.
· Working Temperature : 500 ℃ ~ 2,300 ℃
· Working Zone : 300 mm3 ~ 500 mm3
· Chamber Shape : cylindrical, rectangular, spherical
· Heater : sheath, super kantal, halogen, graphite
· Atmosphere : vacuum, ar
· Auto Vent & Radiation Thermometer
IVT는 국내 대학 및 출연연구기관에 다양한 진공 기반 시스템을 사용자 설계 요구 사항 및 특성에 맞추어 공급해오고 있습니다.
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